德國高端晶硅太陽能電池生產解決方法幫助公司以最低總擁有成本，實現高效率電池的規?；a。

?Manz成功強化pERC太陽能電池生產技術，并進一步提升其作為專業技術供應商的行業領導地位?Manz專業工藝技術與設備可幫助公司將現有生產線輕松升級成pERC太陽能電池生產線?首席執行官DieterManz表示：“Manz在太陽能產業擁有25年的豐富相關經驗，全球重要電池生產公司基本上都是我們的客戶。”

2014年五月二十一日，德國羅伊特林根/我國上?！獮闈M足全球市場對高效率、低成本太陽能電池激增的需求，全球著名的高科技設備制造商Manz亞智科技推出了轉換效率高達20.5%的業界領先的晶硅（cSi）太陽能電池生產解決方法。憑借此先進生產解決方法，Manz成功優化了晶硅太陽能電池的生產技術，并進一步提升其作為專業技術供應商的行業領導地位。Manz將攜其先進cSi生產解決方法參加2014年五月20至二十二日于上海舉辦的SNEC第八屆國際太陽能產業及光伏工程展覽會(SNECpVpOWEREXpO)。

Manz新一代生產工藝采用VCS1200電漿輔助化學氣相沉積(pECVD)垂直式真空鍍膜系統在電池背面沉積氧化鋁鈍化層，結合ManzLAS2400激光開孔技術，可幫助電池生產公司在實現高效晶硅太陽能電池規模化生產的同時將擁有成本降至最低。與市場同類系統相比，Manz易于維護的全自動化設備體積更小、效率更高，適用于單晶硅和多晶硅太陽能電池生產。Manz可為客戶同時供應必要的生產設備和工藝技術，幫助其升級標準電池生產線來生產更高效的pERC電池。

ManzVCS1200系統采用全新的垂直式工藝技術,產量高達每小時1,200個硅片。由于配備高效能電漿和新式載具系統，該鍍膜工藝不會在硅片上留下任何針印或未鍍區，而這一技術優勢正是其他許多同類廠商的系統所不具備的。此外，VCS1200系統使得pECVD層可以實現單面沉積，而不會出現另一面也有邊緣沉積的情況。Manz的高性能pECVD工藝技術保障了最佳的加工再現性，以及業界最高的太陽能電池效率和均勻性。由于該系統的快速清洗理念能讓電池制造商在系統外部清洗工藝區和載具，實現了停機時間最小化。與其他廠商供應系統不同的是，僅需VCS1200單一系統就可沉積介電質鈍化層。該系統不僅極易維護，還可輕松整合至現有電池生產線中，在正面、背面鍍膜以及載具清洗等方面均實現了業界最低的擁有成本。

與VCS1200系統一起推出的還有ManzLAS2400激光開孔系統。該系統可用于背面鈍化層的局部電極開孔，是一款操作簡單、高精度、高產出的解決方法。Manz激光開孔技術為一站式工藝，不僅在這一電池生產流程保證了最低擁有成本，還實現了硅片的安全處理，將破片率降至業界最低。LAS2400系統采用模塊化、小體積設計，非常適宜現有生產線的升級。該系統每小時總產量為2,400個硅片，開孔寬度為30至100μm。Manz晶硅太陽能電池生產解決方法結合了VCS1200及LAS2400的所有優勢，將能提升pERC太陽能電池效率至20.5%!

此外，Manz還供應了業界領先的濕化學處理工具IpSGCEI4800，可與VCS1200和LAS2400生產工具配備形成一套完善的技術解決方法。IpSGCEI4800重要用于去除硅片背面及邊緣的重摻雜層，從而形成化學除邊（CEI）。并在接下來的流程中，去除在之前擴散過程中殘留在硅片正面的磷硅玻璃（pSG）層。由于應用了柔軟的海綿輥和最小化基板壓力的概念，IpSGCEI4800可實現最低破片率。

Manz集團首席執行官兼創始人DieterManz表示：“我國是目前世界最大的太陽能電池生產國，同時也是最大的消費市場之一。Manz很榮幸能參與其中，親歷我國太陽能產業成就輝煌。我們在太陽能產業擁有25年的豐富相關經驗，全球重要電池生產公司基本上都是我們的客戶。在激情成就高效能的公司理念指引下，我們一直通過不斷創新來保持領先于競爭對手的市場地位，而pVSNEC2014給了我們一個展示Manz最新技術的理想平臺。”

“Manz一直致力于深耕我國市場，為我們在我國市場日益上升的客戶群供應一流技術和服務。2012年，我們在蘇州建的20,000平方米生產基地正式投入使用。Manz在亞洲現擁有約900名員工，其中幾乎半數為公司自聘員工。未來我們將繼續加大在我國市場的投資，與我們當地業務伙伴一起合作共同提升其太陽能電池生產線的質量和成本效益。”

在光伏產業，Manz專注于晶硅太陽能電池和薄膜太陽能模塊的生產工藝和解決方法。在晶硅領域，Manz可供應金屬化、激光加工、濕化學處理以及真空鍍膜相關的生產工藝和設備，同時還可供應自動化解決方法以及測試與檢驗方面的專業知識。

圖1.VCS1200電漿輔助化學氣相沉積(pECVD)垂直式真空鍍膜系統可用于在電池背面沉積氧化鋁鈍化層。

圖2.ManzLAS2400激光開孔系統可用于背面鈍化層的局部電極開孔，是一款操作簡單、高精度、高產出的解決方法。